8月31日，由日本目臼光學(xué)公司與信息學(xué)院光電技術(shù)開發(fā)公司共同開發(fā)、研制的投影光刻物鏡在浙大信息學(xué)院光電公司現(xiàn)場(chǎng)完成拍攝試驗(yàn)。在8英寸（φ200nm）的硅片上進(jìn)行試拍的結(jié)果表明，全視場(chǎng)分辨率達(dá)到2.5μ（微米），畸變小于±1.0μ，完全達(dá)到設(shè)計(jì)預(yù)期的要求。
    
    該投影物鏡的數(shù)值孔徑NA＝0.08，通光口徑φ280nm，采用汞燈的I線（波長(zhǎng)365.01nμ）暴光，一次暴光面積為8英寸，物鏡的整體重量超過(guò)300Kg。據(jù)了解，該投影物主要用于新一代大面積、高集成度微電子器件如大面積液晶板的制作等。在光學(xué)鏡頭中屬要求最高的系統(tǒng)，對(duì)光學(xué)大球面大口徑透鏡的加工、測(cè)試、相應(yīng)的鏡筒與鏡座加工和裝配調(diào)試等技術(shù)均提出了很高的要求。
    
    據(jù)介紹，該鏡頭的研制成功是中、日兩國(guó)工程技術(shù)人員合作研發(fā)高技術(shù)產(chǎn)品的典范，也充分表明了浙大信息學(xué)院光電公司在光刻鏡頭的研制上達(dá)到了國(guó)內(nèi)最高水平和國(guó)際先進(jìn)水平。